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該三極管選擇(ze)pHEMT加工過程研(yan)制(zhi)，柵(zha)極時間(jian)為(wei)0.25μm，使用基材(cai)的通孔，氣流橋和光電束(shu)柵(zha)星空刻(ke)技術應(ying)用研(yan)制(zhi)。

它(ta)以集成ic方法供給。